Peek pentru semiconductor tecapeek cmp natural ensinger

What is CMP RETAINER RING or CMP RETAINING RING, WAFER GUIDE RING etc, CMP RETAINER RING is installed at the bottom of the grinding head to fix the wafer and drive the wafer to rotate with the grinding head to achieve the grinding and polishing effect on the suprafața plafonului. Este o parte importantă a echipamentelor CMP.PC CNC prelucrate Partea prelucrată

Polustrul mecanic chimic (CMP) este unul dintre procesele cheie în fabricarea semiconductorilor astăzi. În ultimii ani, pe măsură ce dimensiunea plafonului a devenit mai mare, dimensiunea cipului a devenit mai mică, iar cablarea circuitului a devenit mai subțire. Pentru a obține grosimea ideală a filmului de acoperire și cerințele de acoperire pe un plan ideal în timpul procesului de fabricație, cerințele de precizie ale componentelor periferice în procesul CMP devin din ce în ce mai stricte.

În procesul CMP, inelul de reținere CMP va fi în contact cu diverse materiale de suspensie, iar inelul de reținere CMP trebuie să fie rezistent la coroziunea și uzura chimică. De asemenea, trebuie să poată rezista la sarcini mecanice și ar trebui să aibă o elasticitate bună, duritate și forță. Pentru a crește randamentul fără a deteriora placa, inelul de reținere CMP necesită, de asemenea, o precizie dimensională extrem de ridicată.

Polustrul mecanic chimic (CMP) este un proces cheie în fabricarea semiconductorilor. Pe măsură ce dimensiunea plafonului a devenit mai mare, dimensiunea cipului a devenit mai mică, iar cablarea circuitului a devenit mai subțire, cerințele de precizie ale componentelor periferice în procesul CMP, cum ar fi inelul de reținere CMP, devin din ce în ce mai stricte. Partea prelucrată

Inel de reținere CMP

Caracteristicile produsului din inelul de reținere CMP produs de compania noastră:

1. Materii prime: Folosim materiale din plastic de inginerie de înaltă calitate, inclusiv PPS, PEEK și PEEK Materiale stinse și temperate, pentru a asigura rezistența la coroziune chimică ridicată și rezistența la uzură.

2. Procesul de fabricație: Urmărim standardele de gestionare a platilor de produse extrem de ridicate, care ajută la reducerea zgârieturilor inutile ale corpului străin cauzate de inelul de reținere CMP și oferim o valoare mai bună a Wafer TTV în comparație cu produsele altor producători.

3. Procesul de curățare: folosim tehnologie excelentă de tratare a suprafeței și metode de curățare pentru a reduce zgârieturile inutile ale corpului străin cauzate de inelul de reținere CMP.

4. Avantajul prețurilor: Bazându-se pe capacitatea puternică de aprovizionare a materiei prime și producția pe scară largă a Chinei, oferim prețuri mai competitive în comparație cu concurenții noștri.

5. Cercetare și dezvoltare comună: lucrăm îndeaproape cu clienții noștri pentru a ne îmbunătăți produsele și pentru a îndeplini diferitele cerințe ale procesului.

6. REFURITIME: De asemenea, putem oferi clienților servicii de recondiționare și regenerare pentru produsele utilizate, ceea ce poate reduce costurile de achiziții pentru clienți și pot fi mai ecologice.

7. Controlul calității: Avem măsuri stricte de control al calității pentru a asigura consistența și fiabilitatea produselor noastre de inel de reținere CMP. Fiecare produs este inspectat și testat înainte de expediere pentru a ne asigura că respectă standardele noastre înalte.

8. Serviciul Customer: Echipa noastră este dedicată furnizării de servicii și asistență excepționale pentru clienți. Lucrăm îndeaproape cu clienții noștri pentru a înțelege nevoile și cerințele lor și ne străduim să le depășim așteptările în orice fel posibil.

De obicei, alegem două materiale plastice de inginerie specială: PPS și PEEK pentru a procesa și produce inele de reținere CMP.

Materialul PPS se caracterizează prin rezistență ridicată la uzură, rezistență chimică bună și rezistență la solvent, precum și proprietăți bune de frecare, tip de material curat curat de soare, nu va contamina placa, în comparație cu inelul fix PEEK CMP, costul inelului fix PPS CMP este mai scăzut și a format un lanț industrial complet, familia evidențiază performanța costurilor.

Inelul de reținere PEEK CMP are un coeficient de frecare mai mare, comparativ cu PPS CMP Performanța de frecare a inelului de reținere este mai excelentă, are o rezistență chimică mai cuprinzătoare și mai stabilă, o gamă mai largă de rezistență la temperatură ridicată, astfel încât să fie peek CMP Renun Mediul de prelucrare a termenului de înaltă rezistență mai stabil, în timp relativ, aceleași condiții de muncă, mai mult, dar costul va fi, de asemenea, mai mare în comparație cu unii.